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GB_T 24578-2024 半导体晶片表面金属沾污的测定全反射X射线荧光光谱法.pdf

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本标准为GB/T 24578-2024，标准的中文名称为半导体晶片表面金属沾污的测定全反射X射线荧光光谱法，标准的英文名称为Test method for measuring surface metal contamination on semiconductor wafers —Total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy，本标准在2024-07-24发布，在2025-02-01开始实施。
本标准文件共有19页。

标准封面截图：
GB/T 24578-2024 半导体晶片表面金属沾污的测定全反射X射线荧光光谱法

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