YS/T 1024-2015 溅射用钽靶材:本标准为YS/T 1024-2015，标准的中文名称为溅射用钽靶材，标准的英文名称为Tantalum sputtering targets，本标准在2015-04-30发布，在2015-10-01开始实施。
本标准规定了用以制备薄膜的溅射用钽靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。本标准适用于以真空电子束熔炼的高纯钽锭为原料,通过塑性加工、热处理、机械加工、焊接等方法制造的溅射用钽靶材(以下简称钽靶材)。
本标准文件共有10页。
YS_T 1024-2015 溅射用钽靶材.pdf