YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材:电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材（YS/T 1025-2015），该标准的归口单位为全国有色金属标准化技术委员会，英文名为High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used
in electronic film。
电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材（YS/T 1025-2015）是在2015-04-30发布，在2015-10-01开始实施。
本标准规定了电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、订货单(成合同)等内容。本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金截射靶材,以下简称高纯钨及钨合金靶。
本标准文件共有11页。
YS_T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材.pdf