YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南:电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南（YS/T 935-2013），该标准的归口单位为全国有色金属标准化技术委员会，英文名为Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications。
电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南（YS/T 935-2013）是在2013-10-17发布，在2014-03-01开始实施。
该标准采用了标准ASTM F2113-01(2011),NEQ。
本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材的纯度等级的定义方法、杂质含量分析方法、抽样规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材(以下简称靶材)。其他对纯度有较高要求的靶材纯度等级、杂质含量分析及报告规范也可参照使用。
本标准文件共有6页。
YS_T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南.pdf