YS/T 893-2013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材:本标准为YS/T 893-2013，标准的中文名称为电子薄膜用高纯钛溅射靶材，标准的英文名称为High-purity sputtering titanium target used in electronic film，本标准在2013-10-17发布，在2014-03-01开始实施。
本标准规定了电子薄膜用高纯钛溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及质量证明与合同(订单)等内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类钛溅射靶材。
本标准文件共有9页。
YS_T 893-2013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材.pdf