掩模对准曝光机通用技术条件（SJ/T 11079-1996），该标准的归口单位为无，英文名为General specification of mask alignment and exposure system。
掩模对准曝光机通用技术条件（SJ/T 11079-1996）是在1996-11-20发布，在1997-01-01开始实施。
本标准规定了掩模对准曝光机的术语、技术要求、试验方法、检验规则等,还对供货作了规定。本标准仅适用于接触曝光以及同时具备接触曝光和接近曝光功能的掩模对准曝光机。
本标准文件共有10页。
SJ_T 11079-1996 掩模对准曝光机通用技术条件.pdf
(2.27 MB)
|
|
