本标准为GB/T 43227-2023，标准的中文名称为宇航用集成电路内引线气相沉积保护膜试验方法，标准的英文名称为Test methods for space vapour deposition protective film on semiconductor wire，本标准在2023-09-07发布，在2024-01-01开始实施。
本文件规定了宇航用集成电路内引线采用气相沉积保护膜工艺后的气相沉积保护膜检验方法、电力学环境试验方法。本文件适用于完成气相沉积保护膜的宇航用集成电路的试验。
本标准文件共有12页。 GB_T 43227-2023 宇航用集成电路内引线气相沉积保护膜试验方法.pdf(1.71 MB)
