磁性溅射靶材透磁率测试方法（YS/T 1124-2016），该标准的归口单位为全国有色金属标准化技术委员会，英文名为Testing method on pass through flux of magnetic sputtering target。
磁性溅射靶材透磁率测试方法（YS/T 1124-2016）是在2016-07-11发布，在2017-01-01开始实施。
本标准规定了磁控溅射用磁性靶材透磁率的术语和定义、检测设备、检验过程及结果计算等内容。本标准适用于溅射薄膜用各类磁性靶材透磁率的检验。
本标准文件共有6页。 YS_T 1124-2016 磁性溅射靶材透磁率测试方法.pdf(367.52 KB)
