碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法（SJ/T 11503-2015），该标准的归口单位为全国半导体设备和材料标准化技术委员会，英文名为Test methods for measuring surface roughness of polished monocrystalline silicon carbide wafers。
碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法（SJ/T 11503-2015）是在2015-04-30发布，在2015-10-01开始实施。
本标准规定了测试碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的方法,包括表面轮廓仪法和原子力显微镜法。本标准适用于碳化硅单品抛光片表面粗糙度的测试。其中,原子力显微镜法仅适用于经过化学机械抛光或光学抛光且表面粗糙度的起伏在零点几微米范围内的碳化硅单晶抛光片。
本标准文件共有12页。
SJ_T 11503-2015 碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法.pdf
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