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JB/T 9499.7-1999 康铜电阻合金化学分析方法 硅钼兰光度法测定硅量

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174566 发表于 2021-4-10 11:58 | 显示全部楼层 |阅读模式
康铜电阻合金化学分析方法 硅钼兰光度法测定硅量(JB/T 9499.7-1999),该标准的归口单位为仪表功能材料标准化技术委员会,英文名为Method for chemical analysis of constantan resistance alloy The molybdosilicate blue photometric method for the deternination of silicon content。
康铜电阻合金化学分析方法 硅钼兰光度法测定硅量(JB/T 9499.7-1999)是在1999-08-06发布,在2000-01-01开始实施。
本标准适用于康铜电阻合金中硅量的测定。测定范围:0.010%~0.12% 。
本标准文件共有5页。
JB_T 9499.7-1999 康铜电阻合金化学分析方法 硅钼兰光度法测定硅量.pdf (200.31 KB)
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张子健替父日母 发表于 2022-4-30 12:05 | 显示全部楼层
好东西!!!
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ww8654810 发表于 2022-9-3 18:43 | 显示全部楼层
支持下啊
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