SJ 20984-2008 化学气相淀积(CVD)设备通用规范:化学气相淀积(CVD)设备通用规范（SJ 20984-2008），该标准的归口单位为无，英文名为General specification for chemical vapor deposition(CVD) equipment。
化学气相淀积(CVD)设备通用规范（SJ 20984-2008）是在2008-04-15发布，在2008-06-30开始实施。
本规范规定了化学气相淀积设备的要求、质量保证规定、交货准备。本规范适用于电子行业中光电子、微电子器件的研制和生产的化学气相淀积设备,其它行业的类似设备也可参照执行。
本标准文件共有13页。
SJ 20984-2008 化学气相淀积(CVD)设备通用规范.pdf