SJ 20984-2008 化学气相淀积(CVD)设备通用规范

hardy · 发表于 2021-12-6 14:43

化学气相淀积(CVD)设备通用规范（SJ 20984-2008），该标准的归口单位为无，英文名为General specification for chemical vapor deposition(CVD) equipment。
化学气相淀积(CVD)设备通用规范（SJ 20984-2008）是在2008-04-15发布，在2008-06-30开始实施。
本规范规定了化学气相淀积设备的要求、质量保证规定、交货准备。本规范适用于电子行业中光电子、微电子器件的研制和生产的化学气相淀积设备,其它行业的类似设备也可参照执行。
本标准文件共有13页。

SJ 20984-2008 化学气相淀积(CVD)设备通用规范.pdf (508.21 KB)

浪子白衣 · 发表于 2022-1-3 07:10

这个好啊，谢谢了。

齐总 · 发表于 2022-5-25 00:53

看看。。。

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SJ 20984-2008 化学气相淀积(CVD)设备通用规范

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