SJ/T 10311-1992 低压化学气相淀积设备通用技术条件:本标准为SJ/T 10311-1992，标准的中文名称为低压化学气相淀积设备通用技术条件，标准的英文名称为Generic specification of low pressure chemical vapor deposition system，本标准在1992-06-05发布，在1992-12-01开始实施。
本标准适用于卧式热壁型低压化学气相淀积设备(以下简称LPCVD设备)的设计、制造及工艺应用。其它形式的LPCVD设备的研制亦应参照使用。
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SJ_T 10311-1992 低压化学气相淀积设备通用技术条件.pdf