SJ/T 10311-1992 低压化学气相淀积设备通用技术条件

ceballoz · 发表于 2021-12-2 03:11

本标准为SJ/T 10311-1992，标准的中文名称为低压化学气相淀积设备通用技术条件，标准的英文名称为Generic specification of low pressure chemical vapor deposition system，本标准在1992-06-05发布，在1992-12-01开始实施。
本标准适用于卧式热壁型低压化学气相淀积设备(以下简称LPCVD设备)的设计、制造及工艺应用。其它形式的LPCVD设备的研制亦应参照使用。
本标准文件共有11页。

SJ_T 10311-1992 低压化学气相淀积设备通用技术条件.pdf (2.16 MB)

qwe1806257945 · 发表于 2021-12-26 11:49

感谢分享~

v240 · 发表于 2022-3-1 03:40

强强强强

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SJ/T 10311-1992 低压化学气相淀积设备通用技术条件

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